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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2010Development of new decorative coatings based on gold nanoparticles dispersed in an amorphous TiO2 dielectric matrixTorrell, M.; Machado, P.; Cunha, L.; Figueiredo, N. M.; Oliveira, J. C.; Louro, C.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
Jun-2005Tribocorrosion behaviour of zrNxOy thin films for decorative applicationsFerreira, S. C.; Ariza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.Resumo em ata de conferência Acesso aberto
Fev-2013Study of vanadium doped ZnO films prepared by dc reactive magnetron sputtering at different substrate temperaturesMeng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
Mai-2007Influence of oxygen addition on the structural and elastic properties of TiC thin filmsMarques, L.; Fernandes, Ana C.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.ArtigoAcesso aberto
1-Set-2011Growth and characterization of Bi2Se3 thin films by pulsed laser deposition using alloy targetMeng Lijian; Meng Hui; Gong Wenjie; Liu Wei; Zhang ZhidongArtigoAcesso aberto
Dez-2004Corrosion behaviour of single layered ZrNxOy thin films in artificial sweat solutionsAriza, E.; Rocha, L. A.; Ferreira, S. C.; Vaz, F.; Cunha, L.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.Artigo em ata de conferênciaAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Effect of the oxygen flow on the properties of ITO thin films deposited by ion beam assisted deposition (IBAD)Meng Lijian; Gao Jinsong; Silva, R. A.; Song ShigengArtigoAcesso aberto
2013Development of PVD-deposited Pd-Ag functional thin films membranes on ceramic supports for hydrogen purification/separationPereira, Ana Isabel; Pérez, P.; Mendes, A.; Madeira, L. M.; Tavares, C. J.Artigo em ata de conferênciaAcesso aberto
2015Dependence of Ga-doped ZnO thin film properties on different sputtering process parameters: Substrate temperature, sputtering pressure and bias voltageCastro, M. V.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso aberto
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