Pesquisa avançada

.

Filtros atuais:

Usar filtros adicionais para refinar os resultados da pesquisa:

 |          

Lista de resultados: 1-10 de um total de 28 resultados (tempo de pesquisa: 0.03 segundos).
DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Mai-2009Structure and optical properties of ZnO:V thin films with different doping concentrationWang Li-Wei; Meng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Song Shigeng; Xu Zheng; Xu Xu-RongArtigoAcesso aberto
Mar-2009Optical properties of titanium oxycarbide thin filmsMarques, L.; Pinto, H.; Fernandes, Ana C.; Banakh, O.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.ArtigoAcesso aberto
11-Out-2011Improving the visible transmittance of low-e titanium nitride based coatings for solar thermal applicationsYuste, M.; Galindo, R. Escobar; Carvalho, S.; Albella, J. M.; Sánchez, O.ArtigoAcesso aberto
7-Set-2010Structure-property relations in ZrCN coatings for tribologic applicationsSilva, E.; Figueiredo, M. Rebelo; Franz, R.; Escobar Galindo, R.; Palacio, C.; Espinosa, A.; Velasco, Sebastian Calderon; Mitterer, C.; Carvalho, S.ArtigoAcesso aberto
2009Structural evolution of Ti-Al-Si-N nanocomposite coatingCarvalho, S.; Rebouta, L.; Ribeiro, E.; Vaz, F.; Tavares, C. J.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
12-Set-2017Corrosion behavior of titanium oxynitrided by diffusion and magnetron sputtering methods in physiological solutionPohrelyuk, I. M.; Yaskiv, O. I.; Tkachuk, O. V.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jun-2009Ab initio study of the properties of Ti1-x-ySixAlyN solid solutionMarques, L.; Carvalho, S.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.; Rebouta, L.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
30-Jan-2004Effect of substrate bias voltage on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesCunha, L.; Moura, C.; Leme, J.; Andrês, G.; Pischow, K.ArtigoAcesso aberto