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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
30-Abr-2018Optimization of nanocomposite Au/TiO₂ thin films towards LSPR optical-sensingRodrigues, Marco S.; Costa, D.; Domingues, R. P.; Apreutesei, M.; Pedrosa, Paulo Eduardo Teixeira Baptista; Martin, N.; Correlo, V. M.; Reis, R. L.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Sampaio, Paula; Borges, Joel Nuno Pinto; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
Fev-2005Influence of nitrogen content on the structural, mechanical and electrical properties of TiN thin filmsVaz, F.; Ferreira, J. A.; Ribeiro, E.; Rebouta, L.; Lanceros-Méndez, S.; Mendes, J.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Ribeiro, A. Fernando; Moutinho, Ivo; Pischow, K.; Rijk, J.ArtigoAcesso aberto
Jun-2005Tribocorrosion behaviour of zrNxOy thin films for decorative applicationsFerreira, S. C.; Ariza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.Resumo em ata de conferência Acesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2008Structural study of the oxidation process and stability of NbOxNy coatingsChappé, J. M.; Carvalho, P.; Machado, A. V.; Vaz, F.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Fenker, M.; Kappl, H.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jun-2012Electrical properties of AlNxOy thin films prepared by reactive magnetron sputteringBorges, Joel Nuno Pinto; Martin, N.; Barradas, Nuno P.; Alves, E.; Eyidi, D.; Beaufort, Marie France; Riviere, J. P.; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
12-Set-2017Corrosion behavior of titanium oxynitrided by diffusion and magnetron sputtering methods in physiological solutionPohrelyuk, I. M.; Yaskiv, O. I.; Tkachuk, O. V.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2008Influence of air oxidation on the properties of decorative NbOxNy coatings prepared by reactive gas pulsingChappé, J. M.; Carvalho, P.; Lanceros-Méndez, S.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.; Machado, A. V.; Fenker, M.; Kappl, H.; Parreira, N. M. G.; Cavaleiro, A.; Alves, E.ArtigoAcesso restrito UMinho
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