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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2008Structural study of the oxidation process and stability of NbOxNy coatingsChappé, J. M.; Carvalho, P.; Machado, A. V.; Vaz, F.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Fenker, M.; Kappl, H.ArtigoAcesso restrito UMinho
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
Jul-2009Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD : the effect of reactive gases partial pressureCunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Chappé, J. M.; Olteanu, C.; Munteanu, D.; Munteanu, A.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
2009Study on the thermal stability of Ti(C,O,N) decorative coatingsMoura, C.; Cunha, L.; Chappé, J. M.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
2008Influence of air oxidation on the properties of decorative NbOxNy coatings prepared by reactive gas pulsingChappé, J. M.; Carvalho, P.; Lanceros-Méndez, S.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.; Machado, A. V.; Fenker, M.; Kappl, H.; Parreira, N. M. G.; Cavaleiro, A.; Alves, E.ArtigoAcesso restrito UMinho
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