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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2008Structural study of the oxidation process and stability of NbOxNy coatingsChappé, J. M.; Carvalho, P.; Machado, A. V.; Vaz, F.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Fenker, M.; Kappl, H.ArtigoAcesso restrito UMinho
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
Dez-2008XRD and FTIR analysis of Ti–Si–C–ON coatings for biomedical applicationsOliveira, Cristina; Gonçalves, L. M.; Almeida, B. G.; Tavares, C. J.; Carvalho, S.; Vaz, F.; Escobar Galindo, R.; Henriques, Mariana; Susano, M.; Oliveira, RosárioArtigoAcesso aberto
2008Influence of air oxidation on the properties of decorative NbOxNy coatings prepared by reactive gas pulsingChappé, J. M.; Carvalho, P.; Lanceros-Méndez, S.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.; Machado, A. V.; Fenker, M.; Kappl, H.; Parreira, N. M. G.; Cavaleiro, A.; Alves, E.ArtigoAcesso restrito UMinho
2008Effect of the microstructure on the cutting performance of superhard (Ti, Si, Al)N nanocomposite filmsFernandes, C.; Carvalho, S.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Denannot, M. F.; Pacaud, J.; Rivière, J. P.; Cavaleiro, A.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
8-Ago-2008Effect of thermal treatments on the structure of MoNxOy thin filmsCunha, L.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Staszuk, M.; Malara, S.; Barbosa, J.; Carvalho, P.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
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