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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
1-Jan-1999Characterization of titanium silicon nitride films deposited by PVDVaz, F.; Rebouta, L.; da Silva, R. M. C.; da Silva, M. F.; Soares, J. C.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
Fev-2005Influence of nitrogen content on the structural, mechanical and electrical properties of TiN thin filmsVaz, F.; Ferreira, J. A.; Ribeiro, E.; Rebouta, L.; Lanceros-Méndez, S.; Mendes, J.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Ribeiro, A. Fernando; Moutinho, Ivo; Pischow, K.; Rijk, J.ArtigoAcesso aberto
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
8-Ago-2008Effect of thermal treatments on the structure of MoNxOy thin filmsCunha, L.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Staszuk, M.; Malara, S.; Barbosa, J.; Carvalho, P.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
Jun-2009Ab initio study of the properties of Ti1-x-ySixAlyN solid solutionMarques, L.; Carvalho, S.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.; Rebouta, L.ArtigoAcesso aberto
2001Elastic properties of (Ti,Al,Si) N nanocomposite filmsCarvalho, S.; Vaz, F.; Rebouta, L.; Schneider, D.; Cavaleiro, A.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2009Structural evolution of Ti-Al-Si-N nanocomposite coatingCarvalho, S.; Rebouta, L.; Ribeiro, E.; Vaz, F.; Tavares, C. J.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2008Effect of the microstructure on the cutting performance of superhard (Ti, Si, Al)N nanocomposite filmsFernandes, C.; Carvalho, S.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Denannot, M. F.; Pacaud, J.; Rivière, J. P.; Cavaleiro, A.ArtigoAcesso aberto
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