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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2015Optical properties of zirconium oxynitride films: the effect of composition, electronic and crystalline structuresCarvalho, P.; Borges, Joel Nuno Pinto; Rodrigues, M. S.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Espinós, J. P.; González-Elipe, A. R.; Cunha, L.; Marques, L.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2019Antifungal activity of ZnO thin films prepared by glancing angle depositionPereira-Silva, Patrícia; Costa-Barbosa, Augusto; Costa, Diogo Emanuel Carvalho; Rodrigues, Marco S.; Carvalho, P.; Borges, Joel Nuno Pinto; Vaz, F.; Sampaio, PaulaArtigoAcesso aberto
2008Structural study of the oxidation process and stability of NbOxNy coatingsChappé, J. M.; Carvalho, P.; Machado, A. V.; Vaz, F.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Fenker, M.; Kappl, H.ArtigoAcesso restrito UMinho
8-Ago-2008Effect of thermal treatments on the structure of MoNxOy thin filmsCunha, L.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Staszuk, M.; Malara, S.; Barbosa, J.; Carvalho, P.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
18-Set-2009ZrOxNy decorative thin films prepared by the reactive gas pulsing processCarvalho, P.; Cunha, L.; Alves, E.; Martin, N.; Le Bourhis, E.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
2008Influence of air oxidation on the properties of decorative NbOxNy coatings prepared by reactive gas pulsingChappé, J. M.; Carvalho, P.; Lanceros-Méndez, S.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.; Machado, A. V.; Fenker, M.; Kappl, H.; Parreira, N. M. G.; Cavaleiro, A.; Alves, E.ArtigoAcesso restrito UMinho
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