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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2015Electrochemical and structural characterization of nanocomposite Agy:TiNx thin films for dry bioelectrodes: the effect of the N/Ti ratio and Ag contentPedrosa, Paulo Eduardo Teixeira Baptista; Machado, D.; Fiedler, P.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Haueisen, J.; Vaz, F.; Fonseca, C.ArtigoAcesso restrito autor
Jun-2012Electrical properties of AlNxOy thin films prepared by reactive magnetron sputteringBorges, Joel Nuno Pinto; Martin, N.; Barradas, Nuno P.; Alves, E.; Eyidi, D.; Beaufort, Marie France; Riviere, J. P.; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
2008Structural study of the oxidation process and stability of NbOxNy coatingsChappé, J. M.; Carvalho, P.; Machado, A. V.; Vaz, F.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Fenker, M.; Kappl, H.ArtigoAcesso restrito UMinho
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2015Optical properties of zirconium oxynitride films: the effect of composition, electronic and crystalline structuresCarvalho, P.; Borges, Joel Nuno Pinto; Rodrigues, M. S.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Espinós, J. P.; González-Elipe, A. R.; Cunha, L.; Marques, L.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
15-Out-2015Study of the electrical behavior of nanostructured Ti–Ag thin films, prepared by glancing angle depositionLopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Pedrosa, P.; Martin, N.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
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