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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
5-Set-2014Growth of the [110] oriented TiO2 nanorods on ITO substrates by sputtering technique for dye-sensitized solar cellsLijian Meng; Hong Chen; Can Li; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
2020W/AlSiTiNx/SiAlTiOyNx/SiAlOx multilayered solar thermal selective absorber coatingAL-Rjoub, A.; Rebouta, L.; Cunha, N. F.; Fernandes, F.; Barradas, N. P.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2015Deposition of Pd–Ag thin film membranes on ceramic supports for hydrogen purification/separationPereira, Ana Isabel; Pérez, P.; Rodrigues, S. C.; Mendes, A.; Madeira, L. M.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2014Influence of hydrogen plasma thermal treatment on the properties of ZnO:Al thin films prepared by dc magnetron sputteringCastro, Maria Freire Flores Vieira; Cerqueira, M. F.; Rebouta, L.; Alpuim, P.; Garcia, Cibeli Navarro Belletti; Júnior, G. L.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Dependence of Ga-doped ZnO thin film properties on different sputtering process parameters: Substrate temperature, sputtering pressure and bias voltageCastro, M. V.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso aberto
2015The influence of nitrogen and oxygen additions on the thermal characteristics of aluminium-based thin filmsBorges, Joel Nuno Pinto; Macedo, Francisco; Couto, F. M.; Rodrigues, M.S.; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Pedrosa, P.; Polcar, T.; Marques, L.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
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