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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2011Preparation and characterization of CrNxOy thin films: The effect of composition and structural features on the electrical behaviorArvinte, R.; Borges, Joel Nuno Pinto; Sousa, R. E.; Munteanu, Florentina-Daniela; Barradas, N. P.; Alves, E.; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
2012Characterization of TiAlSiN/TiAlSiON/SiO2 optical stack designed by modelling calculations for solar selective applicationsRebouta, L.; Capela, Paulina Araújo; Andritschky, M.; Matilainen, A.; Santilli, P.; Pischow, K.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2020W/AlSiTiNx/SiAlTiOyNx/SiAlOx multilayered solar thermal selective absorber coatingAL-Rjoub, A.; Rebouta, L.; Cunha, N. F.; Fernandes, F.; Barradas, N. P.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
30-Abr-2018Optimization of nanocomposite Au/TiO₂ thin films towards LSPR optical-sensingRodrigues, Marco S.; Costa, D.; Domingues, R. P.; Apreutesei, M.; Pedrosa, Paulo Eduardo Teixeira Baptista; Martin, N.; Correlo, V. M.; Reis, R. L.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Sampaio, Paula; Borges, Joel Nuno Pinto; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jun-2005Tribocorrosion behaviour of zrNxOy thin films for decorative applicationsFerreira, S. C.; Ariza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.Resumo em ata de conferência Acesso aberto
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Optical properties of zirconium oxynitride films: the effect of composition, electronic and crystalline structuresCarvalho, P.; Borges, Joel Nuno Pinto; Rodrigues, M. S.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Espinós, J. P.; González-Elipe, A. R.; Cunha, L.; Marques, L.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
10-Jul-2015Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputteringCristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N.; Borges, Joel Nuno Pinto; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Cunha, L.; Ion, V.; Dinescu, M.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Munteanu, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
28-Jul-2004Atomic environment and interfacial structural order of TiAlN/Mo multilayersTavares, C. J.; Rebouta, L.; Rivière, J. P.; Girardeau, T.; Goudeau, Ph.; Alves, E.; Barradas, N. P.ArtigoAcesso aberto
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