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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2018In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolutionCunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cristea, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2016Functional behaviour of TiO2films doped with noble metalsRodrigues, M. S.; Borges, J.; Gabor, C.; Munteanu, D.; Apreutesei, M.; Steyer, P.; Lopes, C.; Pedrosa, P.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cunha, L.; Martínez-Martínez, D.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
2015Biological behaviour of thin films consisting of Au nanoparticles dispersed in a TiO2 dielectric matrixBorges, Joel Nuno Pinto; Costa, D.; Antunes, E.; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Rodrigues, M. S.; Apreutesei, M.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Pedrosa, P.; Moura, C.; Cunha, L.; Polcar, T.; Vaz, F.; Sampaio, P.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jun-2005Tribocorrosion behaviour of zrNxOy thin films for decorative applicationsFerreira, S. C.; Ariza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.Resumo em ata de conferência Acesso aberto
2015Optical properties of zirconium oxynitride films: the effect of composition, electronic and crystalline structuresCarvalho, P.; Borges, Joel Nuno Pinto; Rodrigues, M. S.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Espinós, J. P.; González-Elipe, A. R.; Cunha, L.; Marques, L.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
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