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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2018In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolutionCunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cristea, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
10-Jul-2015Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputteringCristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N.; Borges, Joel Nuno Pinto; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Cunha, L.; Ion, V.; Dinescu, M.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Munteanu, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
25-Jun-2013Development of tantalum oxynitride thin films produced by PVD: study of structural stabilityCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2013Electrical and photocatalytic behaviour of TAOxNy magnetron sputtered thin solid filmsCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Costa, P.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
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