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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
15-Out-2015Study of the electrical behavior of nanostructured Ti–Ag thin films, prepared by glancing angle depositionLopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Pedrosa, P.; Martin, N.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Electrochemical and structural characterization of nanocomposite Agy:TiNx thin films for dry bioelectrodes: the effect of the N/Ti ratio and Ag contentPedrosa, Paulo Eduardo Teixeira Baptista; Machado, D.; Fiedler, P.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Haueisen, J.; Vaz, F.; Fonseca, C.ArtigoAcesso restrito autor
27-Mai-2008Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride filmsCarvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R.ArtigoAcesso aberto
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2008Structural study of the oxidation process and stability of NbOxNy coatingsChappé, J. M.; Carvalho, P.; Machado, A. V.; Vaz, F.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Fenker, M.; Kappl, H.ArtigoAcesso restrito UMinho
2018In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolutionCunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cristea, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
15-Ago-2017Characterization of magnetron sputtered sub-stoichiometric CrAlSiNx and CrAlSiOyNx coatingsAl-Rjoub, A.; Costa, P.; Rebouta, L.; Cerqueira, M. F.; Alpuim, P.; Barradas, N. P.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
8-Jan-2015Solar selective absorbers based on Al2O3:W cermets and AlSiN/AlSiON layersRebouta, L.; Sousa, A.; Capela, Paulina Araújo; Andritschky, M.; Santilli, P.; Matilainen, A.; Pischow, K.; Barradas, N. P.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
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