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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2018In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolutionCunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cristea, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
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