Data | Título | Autor(es) | Tipo | Acesso |
2015 | Biological behaviour of thin films consisting of Au nanoparticles dispersed in a TiO2 dielectric matrix | Borges, Joel Nuno Pinto; Costa, D.; Antunes, E.; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Rodrigues, M. S.; Apreutesei, M.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Pedrosa, P.; Moura, C.; Cunha, L.; Polcar, T.; Vaz, F.; Sampaio, P. | Artigo | Acesso restrito UMinho |
27-Mai-2008 | Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride films | Carvalho, P.; Chappé, J. M.; Cunha, L.; Lanceros-Méndez, S.; Alpuim, P.; Vaz, F.; Alves, E.; Rousselot, C.; Espinós, J. P.; Gonzalez-Elipe, A. R. | Artigo | Acesso aberto |
Dez-2013 | Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parameters | Cristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L. | Artigo | Acesso restrito UMinho |
2-Dez-2002 | Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN films | Vaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A. | Artigo | Acesso aberto |
2018 | In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolution | Cunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cristea, D. | Artigo | Acesso restrito UMinho |
2016 | Functional behaviour of TiO2films doped with noble metals | Rodrigues, M. S.; Borges, J.; Gabor, C.; Munteanu, D.; Apreutesei, M.; Steyer, P.; Lopes, C.; Pedrosa, P.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cunha, L.; Martínez-Martínez, D.; Vaz, F. | Artigo | Acesso aberto |
3-Jan-2006 | Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratio | Barbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P. | Artigo | Acesso aberto |
10-Jul-2015 | Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering | Cristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N.; Borges, Joel Nuno Pinto; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Cunha, L.; Ion, V.; Dinescu, M.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Munteanu, D. | Artigo | Acesso restrito UMinho |
3-Set-2015 | Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parameters | Cristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L. | Artigo | Acesso restrito UMinho |
2015 | Optical properties of zirconium oxynitride films: the effect of composition, electronic and crystalline structures | Carvalho, P.; Borges, Joel Nuno Pinto; Rodrigues, M. S.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Espinós, J. P.; González-Elipe, A. R.; Cunha, L.; Marques, L.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F. | Artigo | Acesso restrito UMinho |