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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Jul-2010Effect of the deposition rate on ITO thin films properties prepared by ion beam assisted deposition (IBAD) techniqueMeng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
2010AlNxOy thin films deposited by DC reactive magnetron sputteringBorges, Joel Nuno Pinto; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
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