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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
30-Jan-2004Effect of substrate bias voltage on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesCunha, L.; Moura, C.; Leme, J.; Andrês, G.; Pischow, K.ArtigoAcesso aberto
Mai-2009Structure and optical properties of ZnO:V thin films with different doping concentrationWang Li-Wei; Meng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Song Shigeng; Xu Zheng; Xu Xu-RongArtigoAcesso aberto
2009Structural evolution of Ti-Al-Si-N nanocomposite coatingCarvalho, S.; Rebouta, L.; Ribeiro, E.; Vaz, F.; Tavares, C. J.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
Mar-2009Optical properties of titanium oxycarbide thin filmsMarques, L.; Pinto, H.; Fernandes, Ana C.; Banakh, O.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.ArtigoAcesso aberto
Jun-2009Ab initio study of the properties of Ti1-x-ySixAlyN solid solutionMarques, L.; Carvalho, S.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.; Rebouta, L.ArtigoAcesso aberto
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