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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Jul-2009Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD : the effect of reactive gases partial pressureCunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Chappé, J. M.; Olteanu, C.; Munteanu, D.; Munteanu, A.ArtigoAcesso aberto
7-Abr-2005Optimization and thermal stability of TiAlN-Mo multilayersTavares, C. J.; Vidrago, C.; Rebouta, L.; Le Bourhis, E.; Rivière, J. P.; Denanot, M. F.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2001Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniquesBarata, A.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
28-Jul-2004Atomic environment and interfacial structural order of TiAlN/Mo multilayersTavares, C. J.; Rebouta, L.; Rivière, J. P.; Girardeau, T.; Goudeau, Ph.; Alves, E.; Barradas, N. P.ArtigoAcesso aberto
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
Mar-2009Optical properties of titanium oxycarbide thin filmsMarques, L.; Pinto, H.; Fernandes, Ana C.; Banakh, O.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.ArtigoAcesso aberto
13-Fev-2002Young's modulus of (Ti,Si)N films by surface acoustic waves and indentation techniquesVaz, F.; Carvalho, S.; Rebouta, L.; Silva, M. Z.; Paúl, A.; Schneider, D.ArtigoAcesso aberto
2000Performance of chromium nitride based coatings under plastic processing conditionsCunha, L.; Andritschky, M.; Pischow, K.; Wang, Z.; Zarychta, A.; Miranda, A. S.; Cunha, A. M.ArtigoAcesso aberto
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