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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Jun-2009Ab initio study of the properties of Ti1-x-ySixAlyN solid solutionMarques, L.; Carvalho, S.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.; Rebouta, L.ArtigoAcesso aberto
2004Raman analysis of Si–C–N films grown by reactive magnetron sputteringLiang, E. J.; Zhang, J. W.; Leme, J.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso aberto
Mai-2007Influence of oxygen addition on the structural and elastic properties of TiC thin filmsMarques, L.; Fernandes, Ana C.; Vaz, F.; Ramos, Marta M. D.ArtigoAcesso aberto
18-Set-2009ZrOxNy decorative thin films prepared by the reactive gas pulsing processCarvalho, P.; Cunha, L.; Alves, E.; Martin, N.; Le Bourhis, E.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
8-Ago-2008Effect of thermal treatments on the structure of MoNxOy thin filmsCunha, L.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Staszuk, M.; Malara, S.; Barbosa, J.; Carvalho, P.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2002Performance of chromium nitride and titanium nitride coatings during plastic injection mouldingCunha, L.; Andritschky, M.; Pischow, K.; Wang, Z.; Zarychta, A.; Miranda, A. S.; Cunha, A. M.ArtigoAcesso restrito UMinho
8-Ago-2008Influence of oxygen/argon pressure ratio on the morphology, optical and electrical properties of ITO thin films deposited at room temperatureCui, Hai-Ning; Teixeira, Vasco M. P.; Meng Lijian; Martins, R. F. P.; Fortunato, E.ArtigoAcesso aberto
15-Fev-2008Thermochromic properties of vanadium oxide films prepared by dc reactive magnetron sputteringCui, Hai-Ning; Teixeira, Vasco M. P.; Meng Lijian; Wang, Rong; Gao, Jin-Yue; Fortunato, E.ArtigoAcesso aberto
2009Study on the thermal stability of Ti(C,O,N) decorative coatingsMoura, C.; Cunha, L.; Chappé, J. M.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
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