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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2001Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniquesBarata, A.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
Jan-2001Low-wavenumber Raman scattering in glycerolMoura, C.; Zwick, A.ArtigoAcesso aberto
2009Post growing annealing effect on the optical, electrical and structural properties of CdSe nanocrystals embedded in silica thin filmsLevichev, S.; Chahboun, A.; Rolo, Anabela G.; Conde, O.; Gomes, M. J. M.ArtigoAcesso restrito UMinho
2007The annealing effect on structural and optical properties of ZnO thin films produced by RF sputteringRolo, Anabela G.; Campos, J. Ayres de; Viseu, T. M. R.; Arôso, T. de Lacerda; Cerqueira, M. F.ArtigoAcesso aberto
2005Localization of phonon-polaritons in disordered polar mediaSatanin, Arkadii; Joe, Yong; Kim, Chang Sub; Vasilevskiy, MikhailArtigoAcesso aberto
2008The influence of electric field on the microstructure of nc-Si:H films produced by RF magnetron sputteringThaiyalnayaki, V.; Cerqueira, M. F.; Ferreira, J. A.; Tovar, J.ArtigoAcesso aberto
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2002Dipolar vibrational modes in spherical semiconductor quantum dotsVasilevskiy, MikhailArtigoAcesso aberto
2000Structural studies and influence of the structure on the electrical and optical properties of microcrystalline silicon thin films produced by RF sputteringCerqueira, M. F.; Ferreira, J. A.; Adriaenssens, G. J.ArtigoAcesso aberto
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