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Acesso aberto
Revisto por pares
Effect on the electrical and morphological properties of Bi incorporation into ZnO:Ga and ZnO:Al thin films deposited by confocal magnetron sputtering (vol152, pg 252, 2018)
Autor(es)
Correia, F. C.
Salvador, P. B.
Ribeiro, J. M.
Mendes, A.
Tavares, C. J.
Ficheiros
2019-Vacuum_CJTavares corrigendum.pdf
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